回顧下蒸發(fā)鍍膜法的由來：在1960年湃澎霍夫?qū)�這一方面的研究提出使用，其原理是利用密封的設(shè)備把潔凈的耙材進行電阻加熱到蒸發(fā)的溫度以上，在真空環(huán)境下均勻的沉積在產(chǎn)品表面達到預(yù)定要求的過程。在蒸發(fā)的過程中可以根據(jù)所需工藝要求改變蒸發(fā)的速度和電流等。

真空蒸發(fā)鍍膜從開始到結(jié)束需經(jīng)過以下流程：

一、利用大電流產(chǎn)生高熱能融化膜材使之升華或者蒸發(fā)成為具有能量的氣態(tài)粒子；

二、升華或蒸發(fā)后的能量粒子離開膜材并輸運到待鍍產(chǎn)品；

三、到達待鍍產(chǎn)品后的能量粒子凝聚在產(chǎn)品表面并固化成薄膜；

薄膜原子重組排列完成覆膜。